德國(guó)蔡司X射線顯微鏡Xradia 610 & 620 Versa-華普通用
產(chǎn)品描述
拓展您的探索極限
作為Xradia Versa系列中前沿的產(chǎn)品,蔡司Xradia 610 & 620 Versa 3D X射線顯微鏡在科研和工業(yè)研究領(lǐng)域?yàn)槟_啟多樣化應(yīng)用的新高度。
基于高分辨率和襯度成像技術(shù),Xradia 610 & 620 Versa 大大拓展了亞微米級(jí)無(wú)損成像的研究界限。
優(yōu)勢(shì)
擴(kuò)大了微米級(jí)和納米級(jí)CT解決方案的應(yīng)用范圍
無(wú)損亞微米級(jí)分辨率顯微觀察
在不影響分辨率的情況下可實(shí)現(xiàn)更高通量和更快的掃描
最高空間分辨率500nm,最小體素40nm
可在不同工作距離下對(duì)不同類型、不同尺寸的樣品實(shí)現(xiàn)高分辨率成像
原位成像技術(shù),在受控環(huán)境下對(duì)樣品微觀結(jié)構(gòu)的動(dòng)態(tài)演化過(guò)程進(jìn)行無(wú)損表征
可隨著未來(lái)的創(chuàng)新發(fā)展進(jìn)行升級(jí)和擴(kuò)展
更高的分辨率和通量
傳統(tǒng)斷層掃描技術(shù)依賴于單一幾何放大,而Xradia Versa則將采用光學(xué)和幾何兩級(jí)放大,同時(shí)使用可以實(shí)現(xiàn)更快亞微米級(jí)分辨率的高通量X射線源。大工作距離下高分辨率成像技術(shù)(RaaD)能夠?qū)Τ叽绺蟆⒚芏雀叩臉悠罚ò慵驮O(shè)備)進(jìn)行無(wú)損高分辨率3D成像。此外,可選配的平板探測(cè)器技術(shù)(FPX)能夠?qū)Υ篌w積樣品(重達(dá)25 kg)進(jìn)行快速宏觀掃描,為樣品內(nèi)部感興趣區(qū)域的掃描提供了定位導(dǎo)航。
實(shí)現(xiàn)新的自由度
運(yùn)用業(yè)界出色的3D X射線成像解決方案完成前沿的科研與工業(yè)研究 :憑借最大化利用吸收和相位襯度,幫助您識(shí)別更豐富的材料信息及特征。運(yùn)用衍射襯度斷層掃描技術(shù)(LabDCT Pro)揭示3D晶體結(jié)構(gòu)信息。先進(jìn)的圖像采集技術(shù)可實(shí)現(xiàn)對(duì)大樣品或不規(guī)則形狀樣品的高精度掃描。運(yùn)用機(jī)器學(xué)習(xí)算法,幫助您進(jìn)行樣品的后處理和分割。
優(yōu)異的4D/原位解決方案
蔡司Xradia 600 Versa系列能夠在可控環(huán)境下進(jìn)行材料3D無(wú)損微觀結(jié)構(gòu)表征的動(dòng)態(tài)過(guò)程。憑借Xradia Versa在大工作距離下仍可保持高分辨率成像的特性,可將樣品放置到樣品艙室或高精度原位加載裝置中進(jìn)行高分辨率成像。Versa可與蔡司其它顯微鏡無(wú)縫集成,解決多尺度成像方面的挑戰(zhàn)。
典型任務(wù)和應(yīng)用
工藝流程開發(fā)和供應(yīng)鏈控制:檢查完整樣品從而進(jìn)行有效的源控制,發(fā)現(xiàn)可能影響性能或壽命的工藝流程調(diào)整或成本節(jié)約方案
安全與質(zhì)量檢測(cè):識(shí)別電觸點(diǎn)上的碎片、顆粒、毛刺或聚合物分離器的損壞情況
壽命與老化效應(yīng):老化效應(yīng)的縱向研究
不受影響的高分辨率
由于幾何放大固有的影響,常規(guī)的X射線計(jì)算機(jī)斷層掃描(CT)只能夠?qū)π悠愤M(jìn)行高分辨率成像。受長(zhǎng)工作距離的要求限制,對(duì)于大的樣品實(shí)現(xiàn)高分辨率成像是不可能的。此外,CT系統(tǒng)要實(shí)現(xiàn)高分辨率成像還需要具備低X射線通量,從而降低了檢測(cè)效率。大多數(shù)CT制造商所聲稱的高分辨率與實(shí)際的應(yīng)用分辨率是不符的。
蔡司Xradia 600 Versa系列通過(guò)將兩級(jí)放大架構(gòu)與高通量X射線源技術(shù)相結(jié)合,解決了這些問(wèn)題。
蔡司采用真實(shí)空間分辨率的概念,為衡量3D X射線顯微鏡性能提供了標(biāo)準(zhǔn)??臻g分辨率是指成像系統(tǒng)能夠分辨兩個(gè)特征的最小距離。蔡司Xradia 600 Versa系列可實(shí)現(xiàn)500nm最高空間分辨率和40nm最小體素。
更高的X射線通量源
優(yōu)點(diǎn)眾多
蔡司Xradia 600 Versa系列采用了一項(xiàng)突破性的大功率(25w) X射線源技術(shù),與之前的技術(shù)相比,該技術(shù)可大幅提高X射線通量。新的射線源在保持分辨率性能的同時(shí),通過(guò)改進(jìn)熱管理、增加通量和吞吐量來(lái)提高性能。新的射線源控制系統(tǒng)改善了射線源的響應(yīng)能力,使掃描設(shè)置更快,從而帶來(lái)更簡(jiǎn)單和更吸引人的用戶體驗(yàn)。
更高的X射線通量可提供:
更快的斷層掃描
更多的樣本掃描量
更多感興趣的區(qū)域
更高的信噪比
更強(qiáng)的衍射花樣
支持長(zhǎng)時(shí)間/多掃描工作流程
(原位、DSCoVer、拼接、DCT)
蔡司X射線顯微鏡
RaaD 的多功能優(yōu)勢(shì)
蔡司Xradia Versa采用兩級(jí)放大技術(shù),讓您在大的工作距離下仍可以對(duì)不同類型和不同尺寸的樣品進(jìn)行亞微米分辨率成像,即RaaD技術(shù)。如同在傳統(tǒng)的micro-CT中一樣,樣品圖像最初先進(jìn)行了幾何放大。投影的信號(hào)映射在閃爍體上,閃爍體將X射線轉(zhuǎn)換為可見光。隨后,光學(xué)物鏡會(huì)在圖像到達(dá)探測(cè)器前對(duì)其進(jìn)行再次放大。
蔡司Xradia 600 Versa系列可以產(chǎn)生更多的X射線光子信號(hào),因此可以在不影響分辨率的情況下對(duì)不同尺寸和不同類型的樣品進(jìn)行成像。